[发明专利]薄膜太阳电池CIGS层的硒化方法在审
申请号: | 201210528274.9 | 申请日: | 2012-12-05 |
公开(公告)号: | CN102965641A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 赵岳;申绪男;张颖武;杨亦桐;乔在祥;赵彦民 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十八研究所 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/455;H01L31/18 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人: | 李凤 |
地址: | 300384 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及一种薄膜太阳电池CIGS层的硒化方法,包括以下硒化过程:⑴用气体离化器将Se源蒸发区和气体输出区连接后,气体离化器的离化腔室加温、通入Ar气,Ar气存在于两个电极之间,离化腔室形成辉光放电区;⑵固态Se加热至200-300℃低活性Sen(n≥5)大原子团Se蒸汽进入到400℃~500℃的辉光放电区裂解成小原子团Se蒸汽后,进入到400℃~500℃的气体输出区;⑶小原子团Se蒸汽喷射到衬底表面,参与衬底上CIGS层的反应成膜。本发明通过将大原子团Se蒸汽裂解成Sen(n<5)小原子团Se蒸汽参与CIGS吸收层制备、提高CIGS薄膜太阳电池的光电转换效率起到了显著的作用。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 太阳电池 cigs 方法 | ||
【主权项】:
薄膜太阳电池CIGS层的硒化方法,其特征在于:包括以下硒化过程:⑴用气体离化器通过输气管路将带有Se源料桶的Se源蒸发区和带有喷嘴部分的气体输出区连接后,气体离化器的离化腔室中加温至400℃~500℃,通入Ar气,Ar生成等离子带电体,存在于两个电极之间,离化腔室形成辉光放电区;⑵将Se源料桶中的固态Se加热至200‑300℃,固态Se生成低活性Sen(n≥5)大原子团Se蒸汽进入到400℃~500℃的辉光放电区;辉光放电区中的大原子团Se蒸汽裂解成Sen(n<5)小原子团Se蒸汽后,进入到400℃~500℃的气体输出区;⑶调节气体输出区中小原子团Se蒸汽的流量,将小原子团Se蒸汽喷射到衬底表面,参与薄膜太阳电池衬底上CIGS层的反应成膜;反应成膜完成后,先关闭Se蒸汽,待气体离化器中的温度降至150℃以下后再停止Ar气的提供。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的