[发明专利]用于投影光刻机的调焦调平方法有效
| 申请号： | 201210528991.1 | 申请日： | 2012-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN103869627A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 杨晓青;张青云;王帆 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于投影光刻机的调焦调平方法，其特征在于，包括：步骤一：对被测基底进行全局调焦调平，使基底上各个测量场均包含在调焦调平传感器测量范围之内；步骤二：沿步进方向进行第一次扫描，获取该各个测量场及各个测量点的第一调焦调平数据；步骤三：按一定角度旋转该被测基底后进行第二次扫描，获取该各个测量场及各个测量点的第二调焦调平数据；步骤四：对步骤三及步骤四中获取的数据进行求和平均后获得该各个测量点的Z向偏移距离，并根据该Z向偏移距离计算出各个测量场当前位置与调焦调平传感器本身零平面的Rx，Ry，Z值。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 投影 光刻 调焦 平方 | ||
【主权项】：
一种用于投影光刻机的调焦调平方法，其特征在于，包括：步骤一：对被测基底进行全局调焦调平，使基底上各个测量场均包含在调焦调平传感器测量范围之内；步骤二：沿步进方向进行第一次扫描，获取所述各个测量场及各个测量点的第一调焦调平数据；步骤三：按一定角度旋转所述被测基底后进行第二次扫描，获取所述各个测量场及各个测量点的第二调焦调平数据；步骤四：对步骤三及步骤四中获取的数据进行求和平均后获得所述各个测量点的Z向偏移距离，并根据所述Z向偏移距离计算出各个测量场当前位置与调焦调平传感器本身零平面的Rx，Ry，Z值。
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