[发明专利]单晶硅太阳能电池及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201210529346.1 申请日: 2012-12-06
公开(公告)号: CN103107233A 公开(公告)日: 2013-05-15
发明(设计)人: 杨瑞鹏;张开军;付建明;温显 申请(专利权)人: 杭州赛昂电力有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/078;H01L31/036
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 311215 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种单晶硅太阳能电池的制作方法,包括:提供基片,所述基片为第一类型单晶硅片;在所述基片上表面形成SiGe虚拟衬底;在所述SiGe虚拟衬底上形成第二类型掺杂层,所述第二类型掺杂层受到双轴应力;在所述第二类型掺杂层表面形成抗反射层;在所述抗反射层表面形成第一电极,在所述基片下表面形成第二电极。所述单晶硅太阳能电池的制作方法能够有效提高单晶硅太阳能电池中载流子的迁移率,提高单晶硅太阳能电池的转换效率。
搜索关键词: 单晶硅 太阳能电池 及其 制作方法
【主权项】:
一种单晶硅太阳能电池的制作方法,其特征在于,包括:提供基片,所述基片为第一类型单晶硅片;在所述基片上表面形成SiGe虚拟衬底;在所述SiGe虚拟衬底表面形成第二类型掺杂层,所述第二类型掺杂层受到双轴应力;在所述第二类型掺杂层表面形成抗反射层;在所述抗反射层表面形成第一电极,在所述基片下表面形成第二电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州赛昂电力有限公司,未经杭州赛昂电力有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210529346.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top