[发明专利]一种制备低表面粗糙度氧化锌薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201210530718.2 申请日: 2012-12-10
公开(公告)号: CN103866266A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 张阳;董亚斌;卢维尔;解婧;李超波;夏洋 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: C23C16/40 分类号: C23C16/40;C23C16/44;H01L21/205;C30B25/02
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种制备低表面粗糙度氧化锌薄膜的方法,属于氧化锌薄膜制备技术领域。所述方法包括:原子层沉积设备通入含锌源气体和含氧源气体,在原子层沉积设备反应腔中的硅衬底表面生长氧化锌薄膜;原子层沉积设备通入含铝源气体和含氧源气体,在氧化锌薄膜表面生长氧化铝层。本发明可以简单地抑制氧化锌形核生长,制备出性能完整、具有极低表面粗糙度的氧化锌薄膜。
搜索关键词: 一种 制备 表面 粗糙 氧化锌 薄膜 方法
【主权项】:
一种制备低表面粗糙度氧化锌薄膜的方法,其特征在于,所述方法包括:原子层沉积设备通入含锌源气体和含氧源气体,在所述原子层沉积设备反应腔中的硅衬底表面生长氧化锌薄膜;所述原子层沉积设备通入含铝源气体和含氧源气体,在所述氧化锌薄膜表面生长氧化铝层。
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