[发明专利]一种半透半反式液晶面板的制备方法有效
| 申请号： | 201210533379.3 | 申请日： | 2012-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN103869542A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 铃木照晃 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 王黎延;张振伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半透半反式液晶面板的制备方法，包括：在所述第二基板上涂覆第二取向层；利用所述反射层作为掩膜版，从第二基板的下方对所述第二取向层进行光取向；从第二基板的上方对所述第二取向层进行光取向。运用该方法可在省略掩膜工艺的情况下生成多畴液晶取向方式的半透半反的液晶面板，工艺简单，且降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半透半 反式 液晶面板 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种半透半反式液晶面板的制备方法，所述液晶面板包括：第一基板、第二基板以及位于第一基板和第二基板之间的由多个液晶分子组成的液晶层；所述第一基板和所述第二基板上设置有多个像素，每个像素包括至少一个子像素，每个子像素包括反射区和透射区，所述第二基板对应于反射区的区域上设置有反射层；其特征在于，所述制备方法包括：在所述第二基板上涂覆第二取向层；利用所述反射层作为掩膜版，从第二基板的下方对所述第二取向层进行光取向；从第二基板的上方对所述第二取向层进行光取向。
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