[发明专利]一种制备隐形结构衬底的方法

摘要

本发明公开了一种制备隐形结构衬底的方法，形成一种新型的隐形结构衬底。本发明利用激光发射器下面设置聚焦装置，激光发射器内设有能实现二维及三维可编程化图形移动的模块，聚焦装置设有聚焦深度可控模块，在聚焦装置设置普通衬底；激光发射器的激光束通过聚焦装置的透镜进行聚焦，使激光束聚焦在普通衬底上进行物理或者化学性能改变；得到隐形结构衬底成品。本发明通过深度可控自由聚焦激光系统来改变不同深度的材料性质，简化制备隐形结构衬底的工艺，提高加工效率，减少外延衬底加工的成本。

主权项

一种制备隐形结构衬底的方法，利用外延使用的隐形结构衬底制备技术，通过深度可控自由聚焦激光系统来改变不同深度的材料性质，达到特殊功能结构衬底的制备效果，利用激光技术，实现高效制备Si 、蓝宝石、SiC的III‑V或者II‑VI化合物隐形结构衬底，其特征在于，制备方法的步骤如下：①、清洁好衬底备用；②、激光发射器下面设置聚焦装置，激光发射器内设有能实现二维及三维可编程化图形移动的模块，聚焦装置设有聚焦深度可控模块，在聚焦装置设置普通衬底；③、通过软件进行图像化设计，并控制激光发射器的激光束通过聚焦装置按照图像定位进行聚焦，使激光束改变普通衬底聚焦处的材料性质；④、激光发射器设置设有步进系统，激光束平面移动通过X、Y坐标的步进系统来控制，步进系统的方式包括连续扫描、间接扫描，步进方向可调，聚焦装置通过Z轴来控制激光束在普通衬底上的位置，从而定点定位地改变普通衬底的相关性能；⑤、激光源通过使用波长100‑2000nm或调节功率10mw‑10w的激光发射器实现激光能量的制备，聚焦层在衬底内部；⑥、衬底材料性质改变获得包括密度、杨氏模量、晶格常数、晶相、化学键能、热膨胀系数、原子构成中的一种或多种组合；⑦、通过衬底材料所处的气氛环境，配合激光聚焦装置完成，得到隐形结构衬底成品。