[发明专利]薄膜晶体管及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210537075.4 申请日: 2012-12-12
公开(公告)号: CN103165679A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 冉晓雯;蔡娟娟;廖峻宏;陈蔚宗 申请(专利权)人: 元太科技工业股份有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/336
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明在此揭露一种薄膜晶体管及其制造方法。薄膜晶体管包含金属氧化物半导体层、绝缘层、栅极、源极以及漏极。金属氧化物半导体层包含通道区、源极区及漏极区。通道区具有至少一第一区域以及一第二区域,第一区域的氧空缺浓度大于第二区域的氧空缺浓度。第一区域被第二区域围绕。绝缘层配置在通道区上。源极区及漏极区分别位于通道区的相对两侧。栅极配置在绝缘层上。源极及漏极分别电性连接源极区与漏极区。
搜索关键词: 薄膜晶体管 及其 制造 方法
【主权项】:
一种薄膜晶体管,其特征在于,包含:一金属氧化物半导体层,包含:一通道区,具有至少一第一区域以及一第二区域,该第一区域的氧空缺浓度大于该第二区域的氧空缺浓度,其中该第一区域被该第二区域围绕;以及一源极区及一漏极区,分别位于该通道区的相对两侧;一第一绝缘层,配置在该通道区上;一第一栅极,配置在该第一绝缘层上,其中该第一栅极具有至少一第一开口,且该第一开口位于该第一区域上方;以及一源极及一漏极,分别电性连接该源极区与该漏极区。
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