[发明专利]一种在光刻胶刻蚀过程中表面演化模拟的哈希快速推进方法有效

专利信息
申请号: 201210538668.2 申请日: 2012-12-13
公开(公告)号: CN103064261A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 周再发;施立立;黄庆安;李伟华;张恒 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G06F17/50
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 211189 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种光刻胶刻蚀过程中表面演化模拟的哈希快速推进方法,包括:衬底网格化和确定刻蚀速度矩阵,网格点时间值初始化,构建哈希表和最小堆,向前推进并更新,重复上述步骤直到最小根节点的时间值不小于预设的光刻胶刻蚀(光刻胶显影)时间。本发明根据快速推进模拟方法只计算窄带网格点的特性,引入哈希表并设计了一种专门的数据结构来保存窄带网格点的数据信息;并根据刻蚀表面推进的单向性,复用刻蚀速度数组来保存已经经过的网格点的时间值,同时利用复用值的符号来区分不同网格点的状态;同时建立一个回收哈希表节点的队列,用于快速推进模拟方法申请空间时直接从队列中提取,避免系统频繁申请释放空间的过程,节省了模拟所需时间。
搜索关键词: 一种 光刻 刻蚀 过程 表面 演化 模拟 快速 推进 方法
【主权项】:
一种在光刻胶刻蚀过程中表面演化模拟的哈希快速推进方法,其特征在于,它包括以下步骤:步骤1:将衬底分成由小正方形组成的网格阵列,并采用二维数组来代表这个网格阵列,确定总的光刻胶刻蚀时间,计算不同光刻胶和基片材料网格点的刻蚀速度,获得二维刻蚀速度矩阵;步骤2:定义曲线边界的网格点为NarrowBand,内部的网格点为Alive,外部的网格点为FarAway,根据不同网格点的刻蚀速度,初始化所有网格点的时间值;步骤3:采用周期性边界条件,根据NarrowBand网格点的坐标值构建NarrowBand哈希表,根据每个哈希表节点的时间值构建最小堆,为每个哈希表节点的keynum、time、heapnum和4个相邻节点指针以及next指针赋值;步骤4:取出最小堆中的顶端根节点,将该节点从NarrowBand哈希表中删除,放入回收队列中,并置指向该节点的指针都为Null,置相同位置速度数组的值为该最小值的相反数;在NarrowBand哈希表中查找时间最小值节点的非Alive相邻节点,若可以查找到,重新计算其时间值,并更新该节点在最小堆中的位置;若不能找到,根据哈希值将该相邻节点插入NarrowBand哈希表中;同时根据第一次计算出的时间值将该节点插入到最小堆中,包括完成最小堆的内部重新排序;步骤5:重复上面步骤4直至时间值到达预设的光刻胶刻蚀时间,此时根据哈希表节点中保存的NarrowBand网格点的坐标值,得到由NarrowBand网格点所组成的曲线,即光刻胶在预设刻蚀时间时的表面形貌。
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