[发明专利]等离子体处理设备及其下电极机构

摘要

本发明公开了一种用于等离子体处理设备的下电极机构，包括：下电极底板、接地柱支撑件、接地柱、载板支撑件、载板和加热器，其中，下电极底板接地。接地柱支撑件位于下电极底板的上方，并沿着竖直方向可升降。接地柱的上端与载板支撑件连接，接地柱的下端与接地柱支撑件连接。载板支撑件位于接地柱支撑件的上方，载板支撑件接地且与接地柱电绝缘。载板支撑在载板支撑件上，且通过载板支撑件直接接地。以及加热器设置在载板支撑件和接地柱支撑件之间。根据本发明实施例的下电极机构，接地电流路径简单，且重复性高，解决了下电极接地不良的问题。本发明还公开了一种具有上述下电极机构的等离子体处理设备。

主权项

一种下电极机构，其特征在于，包括：下电极底板、接地柱支撑件、接地柱、载板支撑件、载板和加热器，其中，所述下电极底板接地；所述接地柱支撑件位于所述下电极底板的上方，并沿着竖直方向可升降；所述接地柱的上端与所述载板支撑件连接，所述接地柱的下端与所述接地柱支撑件连接；所述载板支撑件位于所述接地柱支撑件的上方，所述载板支撑件接地且与所述接地柱电绝缘；所述载板支撑在所述载板支撑件上，且通过所述载板支撑件直接接地；以及所述加热器设置在所述载板支撑件和所述接地柱支撑件之间。