[发明专利]一种高密度蚀刻引线框架FCAAQFN封装件及其制作工艺在审

专利信息
申请号: 201210542560.0 申请日: 2012-12-15
公开(公告)号: CN103094240A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 徐召明;刘卫东;王虎;王希有;谌世广 申请(专利权)人: 华天科技(西安)有限公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495;H01L23/49;H01L21/48;H01L21/60
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710018 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种高密度蚀刻引线框架FCAAQFN封装件及其制作工艺,所述封装件主要由选镀层、芯片、凸点、DAF膜、金线、塑封体、腐蚀减薄后铜框架、光致抗蚀涂覆材料、腐蚀后引脚、绿漆和锡球组成;所述制作工艺按照以下步骤进行:晶圆减薄、晶圆划片、铜框架蚀刻、选镀、倒装上芯、回流、清洗、二次上芯、烘烤、打线、塑封、后固化、框架蚀刻减薄、显影图形、框架腐蚀、涂绿漆、植球。本发明具有满足高密度、高性能、多功能及高I/O数封装要求的特点。
搜索关键词: 一种 高密度 蚀刻 引线 框架 fcaaqfn 封装 及其 制作 工艺
【主权项】:
一种高密度蚀刻引线框架FCAAQFN封装件,其特征在于:主要由选镀层(3)、芯片(4)、凸点(5)、芯片(6)、DAF膜(7)、金线(8)、塑封体(9)、腐蚀减薄后铜框架(10)、光致抗蚀涂覆材料(11)、腐蚀后引脚(12)、绿漆(13)和锡球(14)组成;所述选镀层(3)与腐蚀减薄后铜框架(10)粘接,所述芯片(4)通过凸点(5)与腐蚀减薄后铜框架(10)粘接,所述芯片(6)通过DAF膜(7)与芯片(4)连接,所述金丝(8)将芯片(6)与选镀层(3)打线连接,所述塑封体(9)对封装件塑封;腐蚀减薄后铜框架(10)底层涂覆有光致抗蚀涂覆材料(11),腐蚀减薄后铜框架(10)延伸为腐蚀后引脚(12),所述绿漆(13)填充腐蚀后引脚(12)之间蚀刻掉的部分,腐蚀后引脚(12)植入锡球(14)。
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