[发明专利]基于干涉相消的表面等离子体波分解复用器有效
| 申请号： | 201210545512.7 | 申请日： | 2012-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN103048735A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 刘雪明;陆华;王国玺 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122;G02B6/12 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 杨引雪 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种基于干涉相消的表面等离子体波分解复用器，主要解决了现有表面等离子体波分解复用器透射效率较低的问题。该基于干涉相消的表面等离子体波分解复用器包括设置在介质层两侧的金属层，介质层一侧的金属层内设置有多个耦合输出共振腔，每一个耦合输出共振腔对应设置有一个出射通道，出射通道设置在金属层远离介质层一侧并与耦合输出共振腔中心对称；该结构具有极强的光束缚效应，能突破衍射极限的限制，在纳米尺度对光进行传输；能和电子器件和传统光子器件进行有效匹配连接，有效解决了光信号的反射问题，在光通讯、光集成、光信息处理等方面有广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 干涉 表面 等离子体 分解 复用器 | ||
【主权项】：
一种基于干涉相消的表面等离子体波分解复用器，其特征在于：包括设置在介质层两侧的金属层，介质层一侧的金属层内设置有多个耦合输出共振腔，每一个耦合输出共振腔对应设置有一个出射通道，出射通道设置在金属层远离介质层一侧并与耦合输出共振腔中心对称；介质层另一侧的金属层内设置有与耦合输出共振腔数量相同的反射共振腔，耦合输出共振腔与反射共振腔的半径从左至右等差递减，介质层两侧的共振腔距离为Di(i＝1,2,…)，其满足关系式：Di＝λi/(4neff)(i＝1,2,…),λi为第i个共振腔的工作波长，neff为主波导的有效折射率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院西安光学精密机械研究所，未经中国科学院西安光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210545512.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
