[发明专利]用于抛光多晶硅的化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201210548151.1 | 申请日： | 2007-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN103045099A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;张建;蔡鑫元 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液，该抛光液包括研磨颗粒和水，其还包括一种或多种氧化剂。本发明的抛光液可以在碱性条件下显著改变多晶硅的去除速率，调节多晶硅与二氧化硅的选择比,并明显提高多晶硅的平坦化效率和抛光残留物的去除。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 抛光 多晶 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液，该抛光液包括研磨颗粒和水，其特征在于：还包括一种或多种氧化剂。
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