[发明专利]一种印花平面调整装置有效
| 申请号： | 201210549324.1 | 申请日： | 2012-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN103057258A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 欧阳文贻 | 申请（专利权）人： | 苏州展华纺织有限公司 |
| 主分类号： | B41F17/38 | 分类号： | B41F17/38 |
| 代理公司： | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人： | 王凌霄 |
| 地址： | 215222*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种印花平面调整装置，包括矩形的印花平台，所述印花平台由透明材料制成，所述印花平台的四边上设置有布料调整夹具，所述印花平台的上部及下部均设置有与其平行的第一菲涅尔透镜、第二菲涅尔透镜，所述第一菲涅尔透镜中心的上方设置有成像器件，所述第二菲涅尔透镜中心的下方设置有光源，所述成像器件与一图像处理逻辑模块建立数据连接，本发明的图像处理逻辑模块根据所述成像器件的图像进行图像处理后，得到需要印花衣物的明暗分布图，根据所述明暗分布图调整所述条形布料夹具的位置，达到使布料分布均匀的目的，保持印花的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 印花 平面 调整 装置 | ||
【主权项】：
一种印花平面调整装置，包括矩形的印花平台（100），其特征在于：所述印花平台（100）由透明材料制成，所述印花平台（100）的四边上设置有布料调整夹具，所述印花平台（100）的上部及下部均设置有与其平行的第一菲涅尔透镜（520）、第二菲涅尔透镜（510），所述第一菲涅尔透镜（520）中心的上方设置有成像器件（600），所述第二菲涅尔透镜（510）中心的下方设置有光源（400），所述成像器件（600）与一图像处理逻辑模块建立数据连接，图像处理逻辑模块根据所述成像器件（600）的图像进行图像处理后，得到需要印花衣物的明暗分布图，根据所述明暗分布图调整所述布料调整夹具的位置，达到使布料分布均匀的目的。
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