[发明专利]样品气体分析装置与样品气体分析装置用方法有效

专利信息
申请号: 201210551626.2 申请日: 2012-12-18
公开(公告)号: CN103175786B 公开(公告)日: 2017-10-20
发明(设计)人: 板谷隆宏;中谷茂 申请(专利权)人: 株式会社堀场制作所
主分类号: G01N21/3504 分类号: G01N21/3504;G01J3/453;G01J3/02
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司11290 代理人: 周善来,李雪春
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供在对一个或多个测量对象成分进行的定量分析中能同时降低干扰影响与测量误差的样品气体分析装置与样品气体分析装置用方法。样品气体分析装置(100)使用向样品照射光而得到的光谱对所述样品中的一个或多个测量对象成分进行定量分析,并根据从开始产生样品气体到经过规定时间为止的第一产生条件以及经过所述规定时间后的第二产生条件对在多变量分析中使用的库数据进行切换,当处于第一产生条件时,使用对测量对象外成分的干扰影响进行了修正的第一库数据对多个测量对象成分进行定量分析,当处于第二产生条件时,使用没有对测量对象外成分的干扰影响进行修正的第二库数据对多个测量对象成分进行定量分析。
搜索关键词: 样品 气体 分析 装置 方法
【主权项】:
一种样品气体分析装置,其特征在于,使用向样品气体照射光而得到的光谱进行多变量分析,由此对所述样品气体中的一个或多个测量对象成分进行定量分析,根据第一产生条件以及第二产生条件,对库数据进行切换,所述第一产生条件是从开始产生所述样品气体到经过规定时间为止的样品气体产生条件,所述第二产生条件是经过所述规定时间后的样品气体产生条件,所述库数据包括在多变量分析中使用的所述多个测量对象成分每一个的已知标准光谱数据,所述样品气体分析装置具备存储第一库数据和第二库数据的库数据存储部,所述第一库数据用于修正所述第一条件下产生的测量对象外成分的干扰影响,并包括所述多个测量对象成分每一个的已知标准光谱数据,所述第二库数据不修正所述测量对象成分的干扰影响,并包括所述多个测量对象成分每一个的已知标准光谱数据,所述测量对象外成分是所述测量对象成分以外的成分,当处于所述第一产生条件时,使用所述第一库数据对所述一个或多个测量对象成分进行定量分析,当处于所述第二产生条件时,使用所述第二库数据对所述一个或多个测量对象成分进行定量分析,所述测量对象外成分是由于燃料不完全燃烧或催化剂为非活性状态而产生的成分。
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