[发明专利]用于回收氧化铈的方法在审
| 申请号： | 201210553192.X | 申请日： | 2012-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN103159250A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 松井晴信;原田大实;竹内正树 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C01F17/00 | 分类号： | C01F17/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李跃龙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于回收氧化铈的方法。本发明特别涉及一种用于从主要由氧化铈组成的磨料废物回收氧化铈的方法，所述磨料废物源自玻璃衬底的抛光，所述方法包括以下步骤：（i）向磨料废物添加碱性物质的水溶液；（ii）向所得的溶液添加沉淀剂，从而形成主要由氧化铈组成的沉淀物，并且除去上清液；（iii）向所得的沉淀物添加酸性物质的溶液，从而使所述沉淀物为微酸性至中性；（iv）用有机溶剂洗涤该沉淀物；以及（v）干燥并且压碎沉淀物。该方法使将磨料废物再造成主要由氧化铈组成的纯磨料成为可能，可再使用该磨料来抛光与光掩模和中间掩模相关的半导体尖端技术的合成石英玻璃衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 回收 氧化 方法 | ||
【主权项】：
一种用于从主要由氧化铈组成的磨料废物回收氧化铈的方法，所述磨料废物源自玻璃衬底的抛光，所述方法包括以下步骤：（i）向磨料废物添加碱性物质的水溶液；（ii）向所得的溶液添加沉淀剂，从而形成主要由氧化铈组成的沉淀物，并且除去上清液；（iii）向所得的沉淀物添加酸性物质的溶液，从而使所述沉淀物为微酸性至中性；（iv）用有机溶剂洗涤所得的沉淀物；以及（v）干燥并且压碎沉淀物。
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