[发明专利]二维无V型槽光纤阵列装置及其制作方法

摘要

本发明公开了一种二维无V型槽光纤阵列装置及其制作方法，所述光纤阵列装置，包括基板、盖板和M×N根光纤，其中N为光纤层数，M为每层光纤阵列中的光纤数量，相邻两层光纤阵列中的光纤数量相等，所述基板与所述盖板均为平板;第0层光纤阵列作为底层固定在所述基板上,第S层光纤阵列中的光纤固定在第S‑1层光纤阵列中的相邻光纤之间形成的凹槽内，与所述S‑1层光纤阵列中的光纤错位相切；其中，S=1,2…N。本发明公开的二维无V型槽光纤阵列装置，避免了使用昂贵的带有V型槽的基板，大大降低了光纤阵列的批量生产成本，有效利用了基板和盖板之间的空间体积，提高了光纤阵列的密度，在光束整形技术和平面光波导技术中有着非常重要的应用。

主权项

一种二维无V型槽光纤阵列装置，其特征在于，包括基板、盖板和M×Ν根光纤，其中：N为光纤层数，M为每层光纤阵列中的光纤数量，相邻两层光纤阵列中的光纤数量相等；所述基板与所述盖板均为平板，且未设置V型槽结构；第0层光纤阵列作为底层固定在所述基板上；第S层光纤阵列中的光纤固定在第S‑1层光纤阵列中的相邻光纤之间形成的凹槽内，与所述S‑1层光纤阵列中的光纤错位相切；其中，S＝1,2…N；所述相邻两层光纤阵列之间的错位距离为其中X为正整数，D为光纤直径，且且第1至N层光纤阵列均向同一方向以光纤半径整数倍的距离错位固定，形成菱形光纤阵列；所述盖板固定在所述第N层光纤阵列上。