[发明专利]一种清洗液及其应用无效
| 申请号： | 201210556881.6 | 申请日： | 2012-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN103881848A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 蔡鑫元;荆建芬;张建;周文婷;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;C11D7/32;C23G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于金属化学机械抛光后的清洗液，其包含至少一种有机酸、一种氨羧络合剂以及一种羧酸类聚合物。该清洗液可用于对含有金属的晶片抛光后的表面清洗。可将抛光后残留在晶片表面的研磨颗粒及金属离子、腐蚀抑制剂去除，降低晶片表面粗糙度,改善清洗后晶片表面的亲水性，降低表面缺陷，并且可以防止金属表面的腐蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种清洗液，其包括至少一种有机酸，氨羧络合剂，以及至少一种羧酸类聚合物和/或其盐。
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