[发明专利]显示装置、半导体装置及该半导体装置的制造方法有效
申请号: | 201210557132.5 | 申请日: | 2009-11-27 |
公开(公告)号: | CN103022053B | 公开(公告)日: | 2017-01-18 |
发明(设计)人: | 秋元健吾;佐佐木俊成;桑原秀明 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77;H01L29/786;G02F1/1362;G02F1/1368 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 王永刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种显示装置、半导体装置及该半导体装置的制造方法,其中,在将氧化物半导体用作激活层的薄膜晶体管中,防止用作激活层的氧化物半导体区的组成、膜质或界面等的变化,且使薄膜晶体管的电特性稳定。在将第一氧化物半导体区用作激活层的薄膜晶体管中,在第一氧化物半导体区和薄膜晶体管的保护绝缘层之间形成其电导率低于第一氧化物半导体的电导率的第二氧化物半导体区,该第二氧化物半导体区用作第一氧化物半导体区的保护层,而可以防止第一氧化物半导体区的组成的变化和膜质的劣化,且使薄膜晶体管的电特性稳定。 | ||
搜索关键词: | 显示装置 半导体 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种显示装置,包括:衬底上的栅电极;所述栅电极上的栅极绝缘膜;所述栅电极上的包含铟的第一非单晶氧化物半导体层,所述栅极绝缘膜置于二者之间,所述第一非单晶氧化物半导体层具有第一电导率;所述第一非单晶氧化物半导体层上的包含铟的第二非单晶氧化物半导体层,所述第二非单晶氧化物半导体层具有低于所述第一电导率的第二电导率;所述第二非单晶氧化物半导体层上的包含硅和氧的第一绝缘膜;所述第一绝缘膜上的包含硅和氮的第二绝缘膜;以及所述第二绝缘膜上的包含有机材料的平坦化绝缘膜;所述平坦化绝缘膜上的像素电极,所述像素电极与所述第一非单晶氧化物半导体层电接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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