[发明专利]显示装置、半导体装置及该半导体装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201210557132.5 申请日: 2009-11-27
公开(公告)号: CN103022053B 公开(公告)日: 2017-01-18
发明(设计)人: 秋元健吾;佐佐木俊成;桑原秀明 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L29/786;G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 王永刚
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种显示装置、半导体装置及该半导体装置的制造方法,其中,在将氧化物半导体用作激活层的薄膜晶体管中,防止用作激活层的氧化物半导体区的组成、膜质或界面等的变化,且使薄膜晶体管的电特性稳定。在将第一氧化物半导体区用作激活层的薄膜晶体管中,在第一氧化物半导体区和薄膜晶体管的保护绝缘层之间形成其电导率低于第一氧化物半导体的电导率的第二氧化物半导体区,该第二氧化物半导体区用作第一氧化物半导体区的保护层,而可以防止第一氧化物半导体区的组成的变化和膜质的劣化,且使薄膜晶体管的电特性稳定。
搜索关键词: 显示装置 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
一种显示装置,包括:衬底上的栅电极;所述栅电极上的栅极绝缘膜;所述栅电极上的包含铟的第一非单晶氧化物半导体层,所述栅极绝缘膜置于二者之间,所述第一非单晶氧化物半导体层具有第一电导率;所述第一非单晶氧化物半导体层上的包含铟的第二非单晶氧化物半导体层,所述第二非单晶氧化物半导体层具有低于所述第一电导率的第二电导率;所述第二非单晶氧化物半导体层上的包含硅和氧的第一绝缘膜;所述第一绝缘膜上的包含硅和氮的第二绝缘膜;以及所述第二绝缘膜上的包含有机材料的平坦化绝缘膜;所述平坦化绝缘膜上的像素电极,所述像素电极与所述第一非单晶氧化物半导体层电接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210557132.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top