[发明专利]具有耐腐蚀部件的等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201210560158.5 | 申请日： | 2012-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN103177926A | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | 石洪;许林;拉金德·丁德萨;约翰·多尔蒂;方言;李斯文 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在一种实施方式中，等离子体处理装置可以包含等离子体处理室、等离子体区、能量源和耐腐蚀部件。该等离子体处理室可以保持在真空压强下，并可以约束等离子体处理气体。该能量源可以向该等离子体处理室中传送能量，并在该等离子体区内将该等离子体处理气体中的至少一部分转变成等离子体。该耐腐蚀部件可以位于该等离子体处理室内。该耐腐蚀部件可以暴露于该等离子体处理气体，并与该等离子体区不重合。该耐腐蚀部件可以包括涂覆有钽（Ta）外层的不锈钢内层。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 腐蚀 部件 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种包含等离子体处理室、气体分配构件、衬底支撑构件、等离子体区、能量源、和耐腐蚀部件的等离子体处理装置，其中：所述等离子体处理室保持在真空压强下，并约束等离子体处理气体；所述气体分配构件和所述衬底支撑构件被设置在所述等离子体处理室内；所述气体分配构件将所述等离子体处理气体排放在所述等离子体处理室中;所述气体分配构件和所述衬底支撑构件通过所述等离子体区彼此分开;所述能量源与所述气体分配构件、所述衬底支撑构件、或两者电气连通;所述能量源向所述等离子体处理室中传送能量，并在所述等离子体区内将所述等离子体处理气体中的至少一部分转变成等离子体;所述耐腐蚀部件位于所述等离子体处理室内;所述耐腐蚀部件暴露于所述等离子体处理气体，并与所述等离子体区不重合；以及所述耐腐蚀部件包括涂覆有钽（Ta）外层的不锈钢内层。
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