[发明专利]一种GaN基白光倒装芯片的制备方法有效
申请号: | 201210561072.4 | 申请日: | 2012-12-21 |
公开(公告)号: | CN103887218B | 公开(公告)日: | 2018-03-09 |
发明(设计)人: | 封波;赵汉民;孙钱;彭翔 | 申请(专利权)人: | 晶能光电(常州)有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L33/48;H01L33/50;H01L33/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 213164 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提提供一种不受生长衬底限制的GaN基白光倒装芯片的制备方法。本发明采用两次衬底转移工艺,解除了GaN基倒装芯片对生长衬底的限制,同时将半导体多层结构固定在掺了荧光粉的透明永久支撑基板上,从而得到直接发白光的GaN基LED倒装芯片,能大幅降低封装成本及提高封装良率。 | ||
搜索关键词: | 一种 gan 白光 倒装 芯片 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种GaN基白光倒装芯片的制备方法,包括:在生长衬底上依次生长缓冲层、n型GaN层、活性层、p型GaN层,形成GaN基半导体多层结构;在所述半导体多层结构上制备P、N电极,所述P、N电极在半导体多层结构的同一侧,且通过不导电的介质膜隔离开;在所述半导体多层结构上涂第一胶,与第一临时基板进行固化;所述第一胶的固化后邵氏硬度80—100D,耐温度范围‑25—300℃,拉弯强度80‑‑120MPa,压缩强度200—300MPa;将所述生长衬底剥离掉;在剥离后暴露的半导体多层结构表面涂第二胶,与永久支撑基板结合;所述第二胶的耐温范围‑55-+200℃,拉伸强度60‑100MPa,拉弯强度105‑200MPa;去掉第一临时基板和第一胶;其中所述永久支撑基板为掺了荧光粉的陶瓷或玻璃透明基板。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造