[发明专利]具有可见光响应的石墨烯纳米带的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210565983.4 申请日: 2012-12-24
公开(公告)号: CN103011144A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 金彩虹;何丹农;刘睿;张金龙;邢明阳;杨小龙 申请(专利权)人: 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司;华东理工大学
主分类号: C01B31/04 分类号: C01B31/04;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 陆聪明
地址: 200241 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种具有可见光响应的石墨烯纳米带的制备方法。本发明的特征是,先采用真空还原法,在300℃下将氧化石墨烯还原成石墨烯,同时石墨烯骨架中的C=C键被破坏掉,再结合超声处理,从而得到长100~400nm,宽20~80nm的石墨烯纳米带。该纳米带暴露出较多的边缘,可以作为一种理想的载体,并表现出半导体的特性。在模拟太阳光的照射下,制备的石墨烯纳米带具有强的光生电子能力及电子传输能力。
搜索关键词: 具有 可见光 响应 石墨 纳米 制备 方法
【主权项】:
一种具有可见光响应的石墨烯纳米带的制备方法,其特征在于该方法的具体步骤为:将氧化石墨烯,分散于超纯水中,氧化石墨烯与水的质量百分比为0.025:100,超声分散至分散均匀后蒸干,在300℃下真空还原3小时,并再次分散于超纯水中超声分散10min~8小时,其中氧化石墨烯与水的质量百分比为0.003:100,经过水洗涤后,最后分散于超纯水中,得到石墨烯纳米带。
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