[发明专利]一种化学机械抛光液及其应用无效
| 申请号： | 201210567934.4 | 申请日： | 2012-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN103897600A | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;张建;蔡鑫元 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/321;H01L21/311 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于硅通孔的化学机械抛光液，其含有研磨颗粒、络合剂、腐蚀抑制剂和氧化剂。本发明的化学机械抛光液具有较高而且稳定的二氧化硅的去除速率，铜的去除速率可调。可以适用于不同的应用，抛光后铜表面缺陷少。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，其特征在于，包括研磨颗粒、络合剂、腐蚀抑制剂以及氧化剂。
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