[发明专利]反应室装置和用于形成反应室装置的方法有效
| 申请号： | 201210568466.2 | 申请日： | 2012-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN103178280A | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | K·埃里安 | 申请（专利权）人： | 英飞凌科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01M8/04 | 分类号： | H01M8/04 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;李静 |
| 地址： | 德国瑙伊*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 提供了一种反应室装置和用于形成反应室装置的方法，所述反应室装置包括：第一化学反应室；第二化学反应室；第一化学反应室与第二化学反应室之间的隔离件，其中，第一电极安装在隔离件的第一侧上，第一电极的暴露表面面向第一化学反应室，其中，第二电极安装在隔离件的第二侧上，第二电极的暴露表面面向第二化学反应室；以及电子元件，被配置成测量或控制第一化学反应室和第二化学反应室的至少其中之一，其中，所述电子元件设置于第一电极和第二电极之间并与所述第一电极和所述第二电极连接，并且至少部分地被隔离件的隔离材料包围。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 装置 用于 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种反应室装置，包括：第一化学反应室；第二化学反应室；隔离件，位于所述第一化学反应室与所述第二化学反应室之间，其中，第一电极安装在所述隔离件的第一侧上，所述第一电极的暴露表面面向所述第一化学反应室，其中，第二电极安装在所述隔离件的第二侧上，所述第二电极的暴露表面面向所述第二化学反应室；以及电子元件，被配置成测量或控制所述第一化学反应室和所述第二化学反应室中的至少一个，其中，所述电子元件设置于所述第一电极和所述第二电极之间并与所述第一电极和所述第二电极连接，并且至少部分地被所述隔离件的隔离材料包围。
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