[发明专利]电子束帽盖杀菌装置

摘要

本发明的电子束帽盖杀菌装置，能够实现电子束照射单元（8）的小型化，并且能够对帽盖（4）整体均匀地照射电子束。对在无菌室（12）内通过帽盖滑槽（6）输送的帽盖（4），由电子束照射单元（8）照射电子束来杀菌。帽盖滑槽（6）具有使帽盖（4）旋转的同时被输送的自由输送区间（6c）、及被上游侧的星形轮（24）限制的同时输送帽盖（4）的限制输送区间（6b），在限制输送区间（6b），以比上述自由输送区间（6c）中的输送速度慢的速度输送帽盖（4）。此外，在自由输送区间（6c）的电子束照射单元（8）照射电子束的方向的相反侧，设置有使照射的电子束向输送的帽盖（4）偏转的偏转单元（28）。

主权项

一种电子束帽盖杀菌装置，在连续地输送帽盖的期间照射电子束，以对帽盖的内侧和外侧杀菌，其特征在于，具备内部被维持在正压的腔室、用于使帽盖通过该腔室内的输送路径、以及对沿该输送路径输送的帽盖照射电子束的电子束照射单元，所述输送路径由向下方倾斜地配置并将帽盖以内侧朝向侧方的方式输送的帽盖滑槽构成，在该帽盖滑槽中形成有在限制帽盖的移动的同时进行输送的限制输送区间、以及与该限制输送区间连续并使帽盖在向下方旋转的同时隔开间隔被输送的自由输送区间，在所述限制输送区间，设置有与帽盖的外周面抵接而以比自由输送区间中的输送速度慢的速度输送帽盖的移送单元，并且在所述自由输送区间，在电子束照射单元照射电子束的侧方的相反侧，设置有使电子束照射单元照射的电子束向被输送的帽盖偏转的偏转单元，在限制输送区间和自由输送区间，所述电子束照射单元从输送来的帽盖的内侧所面向的侧方照射电子束。