[发明专利]X射线处理装置及X射线处理方法有效
| 申请号： | 201210572461.7 | 申请日： | 2012-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN103182721A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 盐泽育夫;齐藤努;东海林健;米田幸司 | 申请（专利权）人： | 精工精密有限公司 |
| 主分类号： | B26D7/00 | 分类号： | B26D7/00;B26F1/16 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 杨暄 |
| 地址： | 日本国千叶*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于抑制X射线的泄漏。本发明的X射线处理装置包括：工作台，其载置被处理体；X射线处理机构，其对配置在工作台上的规定处理区域内的被处理体照射X射线并进行处理；按压部件（157），其配置在被处理体向处理区域搬送的搬送路径（11b）上，且按压残留在被处理体（101）的边部的耳部而将其压扁；及X射线遮蔽片材（158a）～（158c），其配置在比按压部件更靠X射线处理区域侧，且遮蔽来自X射线处理机构的X射线。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种X射线处理装置，其特征在于包括：工作台（11），其载置被处理体（101）；X射线处理机构（12R、12L），其对配置在所述工作台（11）上的规定处理区域（11a）内的所述被处理体（101）照射X射线并进行处理；按压机构（157），其配置在所述被处理体（101）向所述处理区域（11a）搬送的搬送路径（11b）上，且按压残留在所述被处理体（101）的边部上的耳部（102）而将其压扁；及遮蔽机构（158a～158c），其配置在比所述按压机构（157）更靠所述处理区域（11a）侧，且遮蔽来自所述X射线处理机构（12R、12L）的X射线。
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