[发明专利]超声波清洁法有效
申请号: | 201210574090.6 | 申请日: | 2012-12-26 |
公开(公告)号: | CN103170476A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 榛原照男;久保悦子;森良弘;内部真佐志 | 申请(专利权)人: | 硅电子股份公司 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李振东;过晓东 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明提供能够在稳定的情况下实现高的颗粒去除效率的超声波清洁法。该超声波清洁法用于用超声波照射具有溶解在其中的气体的溶液以对有待在所述溶液中清洁的物品进行清洁。所述方法包括以下步骤。用超声波照射具有第一溶解的气体的浓度的所述溶液。在用超声波照射所述溶液的状态下,将所述溶液中的溶解的气体的浓度从所述第一溶解的气体的浓度改变至低于所述第一溶解的气体的浓度的第二溶解的气体的浓度。通过用超声波照射所述溶液发生声致发光,同时将所述溶液中的所述溶解的气体的浓度从所述第一溶解的气体的浓度改变至所述第二溶解的气体的浓度。 | ||
搜索关键词: | 超声波 清洁 | ||
【主权项】:
用超声波照射具有溶解在其中的气体的溶液以对有待在所述溶液中清洁的物品进行清洁的超声波清洁法,所述方法包括以下步骤:‑用超声波照射具有第一溶解的气体的浓度的所述溶液;及‑在用超声波照射所述溶液的状态下,将所述溶液中的溶解的气体的浓度从所述第一溶解的气体的浓度改变至低于所述第一溶解的气体的浓度的第二溶解的气体的浓度,通过用超声波照射所述溶液发生声致发光,同时将所述溶液中的所述溶解的气体的浓度从所述第一溶解的气体的浓度改变至所述第二溶解的气体的浓度。
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