[发明专利]482.5nm泵浦Pr:KYF获得305nm连续激光的圆盘激光器有效
| 申请号： | 201210574602.9 | 申请日： | 2012-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN103022884B | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 董渊;李述涛;吕彦飞;刘会龙;陈辰;满东华;金光勇;张喜和 | 申请（专利权）人： | 长春理工大学 |
| 主分类号： | H01S3/16 | 分类号： | H01S3/16;H01S3/081 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 陶尊新 |
| 地址： | 130022 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 482.5nm泵浦Pr:KYF获得305nm连续激光的圆盘激光器属于激光技术领域。现有技术热效应严重，泵浦光能量利用率较低，Pr:KYF激光晶体对泵浦光吸收较弱。本发明之圆盘激光器具有抛物面反射镜，抛物面反射镜位于Pr:KYF激光晶体与输出耦合镜之间，抛物面反射镜中心部分有通孔，其抛物面反射镜面朝向Pr:KYF激光晶体；全反射镜是一种金属热沉，腔内一侧平面镜面镀有482.5nm、610nm的高反膜；Pr:KYF激光晶体为片状，与全反射镜腔内一侧平面镜面接触；始端平面反光镜轴线、终端平面反光镜轴线、谐振腔轴线三者平行且位于同一平面内，始端平面反光镜及终端平面反光镜的反光镜面与抛物面反射镜的抛物面反射镜面相对，所述反光镜面、抛物面反射镜面镀有482.5nm高反膜；泵浦源提供482.5nm泵浦光。 | ||
| 搜索关键词： | 482.5 nm 泵浦 pr kyf 获得 305 连续 激光 圆盘 激光器 | ||
【主权项】：
一种482.5nm泵浦Pr:KYF获得305nm连续激光的圆盘激光器，在所述圆盘激光器中，全反射镜（1）、Pr:KYF激光晶体（2）、倍频晶体（3）、输出耦合镜（4）依次同轴排列，其特征在于，同轴排列的还有抛物面反射镜（5），抛物面反射镜（5）位于Pr:KYF激光晶体（2）与输出耦合镜（4）之间，抛物面反射镜（5）中心部分有通孔，其抛物面反射镜面朝向Pr:KYF激光晶体（2）；全反射镜（1）是一种金属热沉，腔内一侧平面镜面镀有482.5nm、610nm的高反膜；Pr:KYF激光晶体（2）为片状，与全反射镜（1）腔内一侧平面镜面接触；始端平面反光镜（6）轴线、终端平面反光镜（7）轴线、谐振腔轴线三者平行且位于同一平面内，始端平面反光镜（6）及终端平面反光镜（7）的反光镜面与抛物面反射镜（5）的抛物面反射镜面相对，所述反光镜面、抛物面反射镜面镀有482.5nm高反膜；泵浦源提供482.5nm泵浦光。
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