[发明专利]抗蚀剂添加剂及包含该抗蚀剂添加剂的抗蚀剂组合物

摘要

本发明公开一种由下式1表示的抗蚀剂添加剂和包含该添加剂的抗蚀剂组合物。所述抗蚀剂添加剂改善抗蚀剂膜表面的疏水性以防止材料在浸没式光刻的曝光过程中在水中浸出，并在显影过程中通过脱保护反应转变成具有亲水性。结果，形成具有优异敏感性和高分辨率的抗蚀剂膜微图案。在式1中，取代基的定义如说明书中所述。

主权项

1.一种抗蚀剂添加剂，由下式1表示：其中，R′、R″和R″′各自独立地选自氢原子、C1-C4烷基、卤素基团和其中一个氢原子被卤素基团取代的C1-C4卤代烷基；R₁和R₂各自独立地是氢原子或C1-C8烷基；R₃是氢原子或由下式2表示的官能团：其中，R₃₁是氢原子或是选自以下的羟基保护基：C1-C20烷基、(C1-C20烷氧基)烷基、C3-C30环烷基、甲酰基、(C1-C20烷基)羰基、(C3-C30环烷基)羰基、(C1-C20烷基)羧基和(C3-C30环烷基)羧基，R₃₂选自C1-C20亚烷基、C2-C20亚烯基、C1-C20杂亚烷基、C2-C20杂亚烯基、C3-C30环烷二基、C3-C30环烯二基、C2-C30杂环烷二基和C3-C30杂环烷二基，R₃₃是选自的酸不稳定基团，其中R_a、R_b、R_c和R_d各自独立地选自C1-C20烷基、C3-C30环烷基、(C1-C10烷基)环烷基、羟烷基、C1-C20烷氧基、(C1-C10烷氧基)烷基、乙酰基、乙酰基烷基、羧基、(C1-C10烷基)羧基、(C3-C18环烷基)羧基和C3-C30杂环烷基，或R_a、R_b、R_c和R_d相邻基团之间稠合在一起形成C3-C30饱和或不饱和烃环或C2-C20杂环基，p是0～3的整数，q是0～10的整数；R₄选自疏水性基团和包含疏水性基团的C1-C20烷基、C3-C30环烷基、酰基、羧基、(C1-C20烷基)羧基、(C3-C30环烷基)羧基、C1-C20杂烷基和C2-C30杂环烷基；R₅是选自的酸不稳定基团，其中R_a、R_b、R_c和R_d各自独立地选自C1-C20烷基、C3-C30环烷基、(C1-C10烷基)环烷基、羟烷基、C1-C20烷氧基、(C1-C10烷氧基)烷基、乙酰基、乙酰基烷基、羧基、(C1-C10烷基)羧基、(C3-C18环烷基)羧基和C3-C30杂环烷基，或R_a、R_b、R_c和R_d相邻基团之间稠合在一起形成C3-C30饱和或不饱和烃环或C2-C20杂环基，p是0～3的整数，q是0～10的整数，或R₅选自包含酸不稳定基团的C1-C20烷基、C3-C30环烷基、酰基、羧基、(C1-C20烷基)羧基、(C3-C30环烷基)羧基、(C1-C20烷基)羧烷基、C1-C20杂烷基和C2-C30杂环烷基；l、m、n和o分别是主链中的重复单元的数目，其中l+m+n+o=1,0<l/(l+m+n+o)<0.9，0<m/(l+m+n+o)≤0.2，0<n/(l+m+n+o)<0.9，0≤o/(l+m+n+o)<0.9。