[发明专利]具有凸透镜结构的像元结构及制造方法

摘要

本发明公开了一种本发明的具有凸透镜结构的像元结构及制造方法，该像元结构包括硅衬底上的光敏元件和用于标准CMOS器件的多层结构，该光敏元件的上方具有向下凸的下凸透镜和向上凸的上凸透镜，该上凸透镜位于下凸透镜的上方，并与下凸透镜组成全凸透镜。本发明可以有效降低光损失，提高像元的灵敏度，提升芯片的性能和可靠性，并大幅度降低芯片成本。

主权项

一种具有凸透镜结构的像元结构，其特征在于：其包括硅衬底上的光敏元件和用于标准CMOS器件的多层结构，该光敏元件的上方具有向下凸的下凸透镜和向上凸的上凸透镜，该上凸透镜位于下凸透镜的上方，并与下凸透镜组成全凸透镜；其中，所述多层结构包括CMOS工艺器件、接触孔层、铜互连线层以及PAD钝化层，所述多层结构的顶面的上设有容纳下凸透镜的容纳层，该容纳层具有凹槽，该下凸透镜设于该凹槽内。