[发明专利]一种茶碱分子表面印迹材料的制备方法有效
申请号: | 201210577415.6 | 申请日: | 2012-12-27 |
公开(公告)号: | CN103172804A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 安富强;杜瑞奎;高保娇;李延斌 | 申请(专利权)人: | 中北大学 |
主分类号: | C08F292/00 | 分类号: | C08F292/00;C08F220/32;C08F8/32;C08J9/26;B01J20/26 |
代理公司: | 太原科卫专利事务所(普通合伙) 14100 | 代理人: | 朱源 |
地址: | 030051*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 本发明公开了一种茶碱分子表面印迹材料的制备方法,涉及分子印迹聚合物。包括以下步骤:硅胶微粒的活化;硅胶微粒表面化学键连含巯基的硅烷偶联剂;硅胶微粒表面化学接枝聚甲基丙烯酸缩水甘油酯;5-氨基水杨酸修饰;硅胶微粒表面分子印迹聚合物的制备。本发明通过先接枝聚合-后交联印迹的方法,制得了高性能的分子印迹聚合物,该分子表面印迹材料,对茶碱具有特异的识别选择性与优异的结合亲和性。 | ||
搜索关键词: | 一种 茶碱 分子 表面 印迹 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种茶碱分子表面印迹材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)硅胶表面化学改性:将活化过的硅胶与含巯基的硅烷偶联剂KH‑590加入到甲苯中,制得表面化学改性的硅胶微粒MPMS‑SiO2;(2)表面化学改性的硅胶微粒接枝聚甲基丙烯酸缩水甘油酯:将表面化学改性的硅胶微粒MPMS‑SiO2与单体甲基丙烯酸缩水甘油酯GMA加入到DMF中,氮气保护,加入BPO,利用MPMS‑SiO2表面的巯基与溶液中的BPO构成氧化还原引发体系,使单体发生表面引发接枝聚合,制得接枝微粒PGMA/SiO2;(3)接枝微粒的水杨酸功能化:在1.5g接枝微粒PGMA/SiO2中加入30mLDMF,浸泡溶胀12小时,再加入溶有3.35g 5‑氨基水杨酸的60mL饱和碳酸钠的水溶液,于80 ℃的恒温条件下反应24h,然后分离出产物微粒,分别用乙醇和蒸馏水洗涤,真空干燥至恒重,即得水杨酸功能化接枝微粒ASA‑PGMA/SiO2;(4)硅胶微粒表面分子印迹材料的制备:取1g水杨酸功能化接枝微粒ASA‑PGMA/SiO2置于浓度为1.2g/L茶碱的乙醇和水混合溶液,所述乙醇和水的体积比1:1,调节体系pH为8,再加入10mL溶有交联剂的浓度为8g/L的乙醇溶液,在50℃下搅拌反应24h,用含有NaCl的乙酸水溶液反复洗涤产物微粒,以除去模板分子茶碱,抽滤,真空干燥,即得茶碱分子表面印迹材料MIP‑ASA‑PGMA/SiO2。
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