[发明专利]喷淋头及化学气相沉积设备

摘要

本发明公开了一种喷淋头。包括顶板和气体分配板，所述顶板与所述气体分配板之间限定气体扩散腔；所述气体分配板具有多个贯穿所述气体分配板的出气通道，连接所述气体扩散腔，所述喷淋头还包括隔板；所述隔板设置在所述顶板与所述气体分配板之间，所述隔板将所述气体扩散腔在平行所述气体分配板的平面上间隔成至少两个气体扩散区；至少两个进气管路分别独立向所述至少两个气体扩散区输入气体。如此便可有效的控制气体的分布，获得符合要求的气流场。本发明还公开了一种包括所述喷淋头的化学气相沉积设备，可以获得良好的沉积效果，得到高质量膜层。

主权项

一种喷淋头，包括顶板和气体分配板，所述顶板与所述气体分配板之间限定气体扩散腔；所述气体分配板具有多个贯穿所述气体分配板的出气通道，所述出气通道连接所述气体扩散腔，其特征在于：所述喷淋头还包括隔板；所述隔板设置在所述顶板与所述气体分配板之间，所述隔板将所述气体扩散腔在平行所述气体分配板的平面上间隔成至少两个气体扩散区；至少两个进气管路分别独立向所述至少两个气体扩散区输入气体。