[发明专利]一种激光退火装置及方法有效

专利信息
申请号: 201210586819.1 申请日: 2012-12-28
公开(公告)号: CN103903967A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 徐建旭;兰艳平 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: H01L21/268 分类号: H01L21/268;B23K26/06
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种激光退火装置包括:激光退火单元,用于对所述加工对象进行激光退火;反射率检测单元,用于检测与分析所述加工对象的表面状态;工件台,用于放置一加工对象;其中,所述激光退火单元包括:激光器、扩束系统、匀光系统、分光系统、聚焦系统。本发明不需要外加探测光源,直接把激光的透射光作为参考光,将加工对象表面的反射光与透射光作对比,随加工时间变化,得出不同的反射光与透射光的比率,进而推算出加工对象表面的反射率变化,进而得到加工对象的表面状态,当加工对象的表面状态为液态时,表示激光退火完成。
搜索关键词: 一种 激光 退火 装置 方法
【主权项】:
一种激光退火装置,其特征在于,包括:激光退火单元,用于对所述加工对象进行激光退火;反射率检测单元,用于检测与分析所述加工对象的表面状态;工件台,用于放置一加工对象;其中,所述激光退火单元包括:激光器,用于射出激光;扩束系统,用于对所述激光器射出的激光进行扩束;匀光系统,用于对所述扩束系统扩束的激光进行匀光;分光系统,用于对经所述匀光系统匀光的激光进行第一分光;其中,所述分光系统将所述激光器射出的99%的激光分出作为第一反射光,并将所述激光器射出的其余1%的激光分出作为透射光;聚焦系统,用于对所述分光系统分出的第一反射光进行聚焦。
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