[发明专利]研磨用组合物以及使用其的研磨方法有效
| 申请号： | 201210587010.0 | 申请日： | 2009-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN103131330A | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 水野敬广;井泽由裕;赤塚朝彦 | 申请（专利权）人： | 福吉米株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 蔡晓菡;孟慧岚 |
| 地址： | 日本爱知*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的第1方式的研磨用组合物含有含氮化合物和磨粒、pH为1～7。研磨用组合物中所含的含氮化合物优选具有通式(1)：R1-N(-R2)-R3(其中，R1、R2、R3分别表示烷基或者在烷基上附加特性基团得到的基团，R1～R3中的2个可构成杂环的一部分，R1～R3中的2个还可以相同并与剩余的1个一起构成杂环的一部分)所示的结构，或者为羧基甜菜碱型两性表面活性剂、磺基甜菜碱型两性表面活性剂、咪唑啉型两性表面活性剂、和氧化胺型两性表面活性剂中的任一种。本发明的第2方式的研磨用组合物含有水溶性高分子和磨粒，不含氧化剂，pH为1～8。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 以及 使用 方法 | ||
【主权项】：
一种研磨用组合物，其含有含氮化合物和磨粒，所述磨粒为二氧化硅，pH为1～7，上述含氮化合物具有通式：R1‑N(‑R2)‑C(=O)‑R4所示的结构，式中，R1、R2、R4分别表示烷基或者在烷基上附加特性基团得到的基团，R1或R2可以与R4一起构成杂环的一部分。
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