[发明专利]LED芯片及制造方法有效
申请号: | 201210587583.3 | 申请日: | 2012-12-28 |
公开(公告)号: | CN103066181A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 崔成强;梁润园;韦嘉;袁长安 | 申请(专利权)人: | 北京半导体照明科技促进中心 |
主分类号: | H01L33/38 | 分类号: | H01L33/38;H01L33/44;H01L33/62 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人: | 吴大建;刘华联 |
地址: | 100080 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明的一方面提出了一种LED芯片,包括:台阶状的堆叠,位于堆叠之上的钝化层;形成于钝化层中的处于相应于第一台阶面的区域内的P型电极;以及形成于钝化层中的处于相应于第二台阶面的区域内的N型电极,其中,P型电极的面积与N型电极的面积之比或N型电极的面积与P型电极的面积之比处于0.7-1.2的范围内。本发明还提出了改进的两种LED芯片和两种制作LED芯片的方法。根据本发明的LED芯片和制造方法,解决了现有技术中的LED芯片在SMT技术的应用中容易产生虚焊、偏位、短路等不足。 | ||
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【主权项】:
一种LED芯片,包括:台阶状的堆叠,包括位于最底部的基底、相邻地位于所述基底之上的N型材料层、相邻地位于所述N型材料层之上的发光层,以及相邻地位于所述发光层之上的P型材料层,其中所述P型材料层位于所述堆叠的第一台阶面上,所述N型材料层的外侧部分位于所述堆叠的第二台阶面上,所述第一台阶面高于所述第二台阶面;位于所述堆叠之上的钝化层;形成于所述钝化层中的处于相应于所述第一台阶面的区域内的P型电极;以及形成于所述钝化层中的处于相应于所述第二台阶面的区域内的N型电极,其特征在于,所述P型电极的面积与所述N型电极的面积之比或所述N型电极的面积与所述P型电极的面积之比处于0.7‑1.2的范围内,优选为1。
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