[发明专利]LED芯片及制造方法有效

专利信息
申请号: 201210587583.3 申请日: 2012-12-28
公开(公告)号: CN103066181A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 崔成强;梁润园;韦嘉;袁长安 申请(专利权)人: 北京半导体照明科技促进中心
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38;H01L33/44;H01L33/62
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 吴大建;刘华联
地址: 100080 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的一方面提出了一种LED芯片,包括:台阶状的堆叠,位于堆叠之上的钝化层;形成于钝化层中的处于相应于第一台阶面的区域内的P型电极;以及形成于钝化层中的处于相应于第二台阶面的区域内的N型电极,其中,P型电极的面积与N型电极的面积之比或N型电极的面积与P型电极的面积之比处于0.7-1.2的范围内。本发明还提出了改进的两种LED芯片和两种制作LED芯片的方法。根据本发明的LED芯片和制造方法,解决了现有技术中的LED芯片在SMT技术的应用中容易产生虚焊、偏位、短路等不足。
搜索关键词: led 芯片 制造 方法
【主权项】:
一种LED芯片,包括:台阶状的堆叠,包括位于最底部的基底、相邻地位于所述基底之上的N型材料层、相邻地位于所述N型材料层之上的发光层,以及相邻地位于所述发光层之上的P型材料层,其中所述P型材料层位于所述堆叠的第一台阶面上,所述N型材料层的外侧部分位于所述堆叠的第二台阶面上,所述第一台阶面高于所述第二台阶面;位于所述堆叠之上的钝化层;形成于所述钝化层中的处于相应于所述第一台阶面的区域内的P型电极;以及形成于所述钝化层中的处于相应于所述第二台阶面的区域内的N型电极,其特征在于,所述P型电极的面积与所述N型电极的面积之比或所述N型电极的面积与所述P型电极的面积之比处于0.7‑1.2的范围内,优选为1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京半导体照明科技促进中心,未经北京半导体照明科技促进中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210587583.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top