[发明专利]一种采用回收法制取二氯二氢硅的制备方法

摘要

本发明公开了采用回收法制取二氯二氢硅。所需设备主要有：精馏塔，吸附塔，储罐，制冷系统，充装台，真空机组，尾气吸收塔等。多晶硅是用三氯硅烷加氢还原制得的，在此过程中产生约1%的二氯二氢硅。未反应的三氯硅烷，通过逐级冷凝、精馏来回收，可得到高浓度二氯二氢硅。本工艺可同时回收二氯二氢硅和三氯氢硅，三氯氢硅也是一种重要的硅外延材料，在半导体工业中用量比二氯二氢硅大。

主权项

一种采用回收法制取二氯二氢硅的制备方法，其特征在于所需设备主要有：精馏塔，吸附塔，储罐，制冷系统，充装台，真空机组，尾气吸收塔等，多晶硅是用三氯硅烷加氢还原制得的，在此过程中产生约1%的二氯二氢硅，未反应的三氯硅烷，通过逐级冷凝、精馏来回收，可得到高浓度二氯二氢硅，以多晶硅生产副产物作为原料进行提纯，其组成如下：SiH₂Cl₂:~20%;SiHCl₃:~65%;SiCl₄:~15%;HCl:~1%B＞5×10^‑9；Fe＞300×10^‑9；Al＞5×10^‑9；C＞500×10^‑9；P＞2×10^‑9；其余为空气；基于原料中同系物相对挥发度相差较大，可采取精馏方法将同系物进行分离，其他杂质与二氯二氢硅相对挥发度接近，用精馏法难以除去，可选取物理或化学吸附方法进行分离。