[发明专利]焦平面探测器铟柱的光刻方法及装置

摘要

本发明公开了一种焦平面探测器铟柱的光刻方法及装置，该方法包括：在金属化处理后的探测器芯片上涂覆光刻胶；将涂覆完光刻胶的所述探测器芯片进行烘烤；将烘烤完的所述探测器芯片进行离焦光刻，得到显影后呈倒梯形的厚胶图形；将离焦光刻后的探测器芯片进行低温烘烤。该装置包括：涂胶机、烘烤箱和光刻机。本发明通过对涂覆完光刻胶的探测器芯片进行整体烘烤之后，再对探测器芯片进行表面烘烤，使得探测器芯片上的光刻胶产生内外温差，然后结合非接触光刻方式的离焦光刻，产生显影后呈倒梯形的厚胶图形，该倒梯形的厚胶图形侧壁与铟的接触面积小，后续用丙酮溶解光刻胶时，光刻胶表面上的铟更容易脱落，从而得到均匀的铟柱形貌。

主权项

一种焦平面探测器铟柱的光刻方法，其特征在于，包括：在金属化处理后的探测器芯片上涂覆光刻胶；将涂覆完光刻胶的所述探测器芯片进行烘烤；将烘烤完的所述探测器芯片进行离焦光刻，得到显影后呈倒梯形的厚胶图形；将离焦光刻后的探测器芯片进行低温烘烤。