[发明专利]一种直写式光刻加工系统及光刻方法

摘要

一种直写式光刻加工系统和光刻方法，该光刻加工系统包括能够运用傅立叶展开计算功能的控制系统和由该控制系统控制实现多次光刻的曝光系统。该光刻方法依据傅立叶分析原理，将待刻曲面展开为傅立叶多项式，然后根据多项式中各项余弦函数进行多次光刻，使得多此光刻叠加后实现目标曲面的刻蚀。通过本发明的实施，能够对任意大幅面的三维曲面进行刻蚀，并且具有较高的设计灵活性、刻蚀效率和精确度，以及较低的成本等优点。

主权项

一种直写式光刻加工系统，包括曝光系统和控制系统，其特征在于：所述曝光系统包括光源、分光器件、第一光学镜组、可变光阑和第二光学镜组，所述分光器件为空间光调制器，所述第一光学镜组和第二光学镜组组成缩放投影光学镜组，所述可变光阑具有位置可调的单级光通孔，该曝光系统按光源、分光器件、第一光学镜组、可变光阑和第二光学镜组的顺序组成曝光光路，所述控制系统包括用于将三维曲面进行傅里叶展开的计算器和根据上述计算器得到的傅里叶多项式进行曝光控制的驱动控制器，其中所述驱动控制器包括用以驱动空间光调制器显示的驱动电路、用以控制可变光阑单级光通孔位置的单轴驱动电机，以及用以驱动整个曝光系统进行移动的三轴驱动电机。