[发明专利]通过负性显影形成光刻图形的方法有效
| 申请号： | 201210597633.6 | 申请日： | 2012-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN103091978A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | Y·C·裴;孙纪斌;李承泫;朴钟根;C·安德斯 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/32;G03F7/004;G03F7/038 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： |
通过负性显影形成光刻图形的方法。提供了一种通过负性显影形成光刻图形的方法，包含：(a)提供包含一个或多个待图形化的层的基材；(b)在所述一个或多个待图形化的层上施加光致抗蚀剂组合物层；(c)在光化辐射下图形化曝光所述光致抗蚀剂组合物层；(d)在曝光后烘烤过程中加热曝光后的光致抗蚀剂组合物层；和(e)用有机溶剂显影液显影曝光后烘烤的光致抗蚀剂组合物层，从而形成光致抗蚀剂图形，其中，所述光致抗蚀剂组合物包含一种聚合物。其包含以下通式(I)的单元： |
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| 搜索关键词： | 通过 显影 形成 光刻 图形 方法 | ||
【主权项】：
1.一种通过负性显影形成光刻图形的方法，包含：(a)提供包含一个或多个待图形化的层的基材；(b)在所述一个或多个待图形化的层上施加光致抗蚀剂组合物层；(c)在光化辐射下图形化曝光所述光致抗蚀剂组合物层；(d)在曝光后烘烤过程中加热曝光后的光致抗蚀剂组合物层；和(e)用有机溶剂显影液显影曝光后烘烤的光致抗蚀剂组合物层，从而形成光致抗蚀剂图形。其中，所述光致抗蚀剂组合物包含一种聚合物，其包含以下通式(I)的单元：![]()
其中：R1表示氢或C1-C3烷基；a表示1-3的整数；b表示0或1。
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