[实用新型]多级聚焦镜刻痕装置有效
| 申请号： | 201220007270.1 | 申请日： | 2012-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN202482373U | 公开（公告）日： | 2012-10-10 |
| 发明（设计）人： | 向邦林;邢国峰;郭万青;卢纪平;姜全力 | 申请（专利权）人： | 宝山钢铁股份有限公司 |
| 主分类号： | C21D8/12 | 分类号： | C21D8/12;B23K26/04;B23K26/16 |
| 代理公司： | 上海东信专利商标事务所 31228 | 代理人： | 杨丹莉 |
| 地址： | 201900 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种多级聚焦镜刻痕装置，其包括一激光源；一聚焦镜阵列，其包括N块在厚度方向上依次叠放的聚焦镜，所述各聚焦镜邻近激光源的侧面均为一倾斜的聚焦反射面，所述激光源发射的激光束照射在聚焦反射面上并由该聚焦反射面反射到待刻痕物件上，所述各聚焦镜在激光束入射的方向上从上往下依次缩进相等的距离；一驱动装置，其与所述聚焦镜阵列连接，驱动各聚焦镜在激光束入射的方向上发生相对移动并使得相对移动后的各聚焦镜之间的缩进距离依然相等。本实用新型所述的多级聚焦镜刻痕装置在保证了刻痕均匀性的同时大大提高了机组的生产速度。 | ||
| 搜索关键词： | 多级 聚焦 刻痕 装置 | ||
【主权项】：
一种多级聚焦镜刻痕装置，对一待刻痕物件的表面进行刻痕，其特征在于，所述多级聚焦镜刻痕装置包括：一用于发射激光束的激光源；一聚焦镜阵列，其包括N块在厚度方向上依次叠放的聚焦镜，所述各聚焦镜邻近激光源的侧面均为一倾斜的聚焦反射面，所述激光源发射的激光束照射在聚焦反射面上并由该聚焦反射面反射到待刻痕物件上，所述各聚焦镜在激光束入射的方向上从上往下依次缩进相等的距离；一驱动装置，其与所述聚焦镜阵列连接，驱动各聚焦镜在激光束入射的方向上发生相对移动并使得相对移动后的各聚焦镜之间的缩进距离依然相等。
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