[实用新型]发光装置有效
申请号: | 201220014175.4 | 申请日: | 2012-01-13 |
公开(公告)号: | CN202613098U | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 邱冠凯 | 申请(专利权)人: | 上海向隆电子科技有限公司 |
主分类号: | F21S2/00 | 分类号: | F21S2/00;F21V13/02 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 胡美强 |
地址: | 201508 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及发光装置,包括:一框体;在所述的框体内安置一导光单元;所述的导光单元具有复数导光微结构,该些导光微结构位于该导光单元之一底面;一光源;所述的光源设置在该导光单元之一入光面;以及一反射组件;所述的反射组件设置在该底面,并具有复数反射微结构;该些反射微结构与该些导光微结构是紧接设置,并由同一热压制程形成;本实用新型的有益效果是:可使反射组件之反射微结构完全紧接于导光单元之导光微结构,因此可减少反射组件与导光单元之间的距离,避免光线由反射组件与导光单元之间的空隙漏出,更可提高发光装置的光线利用率。 | ||
搜索关键词: | 发光 装置 | ||
【主权项】:
一种发光装置,包括:一框体;在所述的框体内安置一导光单元;其特征在于:所述的导光单元具有复数导光微结构,该些导光微结构位于该导光单元之一底面;一光源;所述的光源设置在该导光单元之一入光面;以及一反射组件;所述的反射组件设置在该底面,并具有复数反射微结构;该些反射微结构与该些导光微结构是紧接设置,并由同一热压制程形成。
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