[实用新型]一种具有防核辐射功能的“E”形一次反射光路结构有效

专利信息
申请号: 201220018696.7 申请日: 2012-01-16
公开(公告)号: CN202406195U 公开(公告)日: 2012-08-29
发明(设计)人: 菅强;李曙光;陈敏;危建辉;战培飞 申请(专利权)人: 赵小鹏
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;G21F3/00
代理公司: 北京慧泉知识产权代理有限公司 11232 代理人: 王顺荣;唐爱华
地址: 102205 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及一种具有防核辐射功能的“E”形一次反射光路结构,包括用于固定光路结构的屏蔽框架、屏蔽层、镜面反射面、电子摄像机、光源及光敏电阻,屏蔽框架为“E”形钢结构固定架,由上屏蔽框、中间屏蔽框、下屏蔽框以及侧屏蔽框组成;所述的镜面反射面为两个,使得每个屏蔽空间内的入射光线经一次反射后与反射光线垂直;光源和电子摄像机分别安装在上屏蔽空间及下屏蔽空间内、光敏电阻安装在屏蔽框架外部;所述的电子摄像机及光源的背面及侧面设置有屏蔽层。本实用新型结构巧妙、适应亮度范围广、应用效果好,适合具有强核辐射特征的目标体的事故前后的监视和记录。
搜索关键词: 一种 具有 核辐射 功能 一次 反射光 结构
【主权项】:
一种具有防核辐射功能的“E”形一次反射光路结构,其特征在于:该结构具体包括用于固定光路结构的屏蔽框架、屏蔽层、镜面反射面、电子摄像机、光源及光敏电阻,其中所述的屏蔽框架为“E”形钢结构固定架,其中,所述的“E”形屏蔽框架是由上屏蔽框、中间屏蔽框、下屏蔽框以及侧屏蔽框组成,并使整个屏蔽框架被分成两个侧面有开口的屏蔽空间——上屏蔽空间及下屏蔽空间;所述的镜面反射面为两个,位于上屏蔽空间的镜面反射面分别与中间屏蔽框上侧及侧屏蔽框相邻并成45度夹角,位于下屏蔽空间的镜面反射面分别与中间屏蔽框下侧及侧屏蔽框相邻并成45度夹角,使得每个屏蔽空间内的入射光线经一次反射后与反射光线垂直;光源和电子摄像机分别安装在上屏蔽空间及下屏蔽空间内、光敏电阻安装在屏蔽框架外部;所述的电子摄像机及光源的背面及侧面设置有屏蔽层,其中所述的电子摄像机及光源的侧面是指正对着辐射源的一面;正对辐射源的一面的屏蔽层与背面的屏蔽层的厚度之比是8∶1;在所述的电子摄像机和光源的背面及侧面设置的屏蔽层均为钨镍合金屏蔽层与聚乙烯屏蔽层复合的方式。
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