[实用新型]高温真空单晶烧结炉有效
申请号: | 201220022757.7 | 申请日: | 2012-01-18 |
公开(公告)号: | CN202465962U | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 静宇;静枫 | 申请(专利权)人: | 吉林省赛尔光电技术有限公司 |
主分类号: | C30B35/00 | 分类号: | C30B35/00 |
代理公司: | 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司 22100 | 代理人: | 魏征骥 |
地址: | 130062 吉林省长*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本实用新型涉及一种高温真空单晶烧结炉,属于镀膜技术领域。碳毡保温筒与外壳内部套接,筒形石墨加热器与支架固定连接,筒形石墨加热器与石墨坩埚外部套接。实用新型的优点在于:结构具有新颖性,体积小,费用低,效率高,更换简单,维修方便,径向温度梯度小,适于大尺过石锅加热,热场均匀,材料的均匀性以及重复性好成品率高,使用寿命长,保温效果好,温场复性好,有利于镀膜材料及晶体生长制作,在前端就达到了温度控制。 | ||
搜索关键词: | 高温 真空 烧结炉 | ||
【主权项】:
一种高温真空单晶烧结炉,其特征在于:碳毡保温筒与外壳内部套接,筒形石墨加热器与支架固定连接,筒形石墨加热器与石墨坩埚外部套接。
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