[实用新型]发光二极管模块检验有效
| 申请号： | 201220028375.5 | 申请日： | 2012-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN202633246U | 公开（公告）日： | 2012-12-26 |
| 发明（设计）人： | 罗友群;方志恒 | 申请（专利权）人： | 由田信息技术(上海)有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京天平专利商标代理有限公司 11239 | 代理人： | 孙刚 |
| 地址： | 200020 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种发光二极管模块检验，包括：一摄影部、一扩散层、一介质层、复数光源模块及一辐射模块；摄影部用以撷取影像，扩散层位于摄影部前方用以均匀化光源，介质层位于扩散层前方用以提供光源穿透，复数光源模块位于介质层前方，将复数光源模块容置固定于一承载件内表面，其中复数光源模块系以规则性比例之多组单一光源组件排列而成，且每一组单一光源组件组成之数量皆相等，辐射模块位于承载件下方。本创作特征在于透过复数模块光源配置及特殊迭层结构设计，使待测物前、后段亮度下降现象获得补偿。 | ||
| 搜索关键词： | 发光二极管 模块 检验 | ||
【主权项】：
一种发光二极管模块检验，包括：一摄影部，系用以撷取影像；一扩散层，位于该摄影部前方，系用以均匀化光源并于扩散层内部空间将光线产生会聚；一介质层，位于该扩散层前方，系用以提供光源穿透；其特征在于：复数光源模块，位于该介质层前方，系容置固定于一承载件内表面，该复数光源模块系以规则性比例之多组单一光源组件排列而成，其中每一组单一光源组件组成之数量皆相等；以及一辐射模块，位于该承载件下方。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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