[实用新型]镍合金导光板模仁有效
申请号: | 201220034177.X | 申请日: | 2012-02-03 |
公开(公告)号: | CN202583691U | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
发明(设计)人: | 黎杰;周涛;李真明;黎盼;余文龙 | 申请(专利权)人: | 昆山美微电子科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38;G02B6/00 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及显示器背光模组的导光板领域,尤其涉及一种用LIGA技术制造的镍合金导光板模仁,包括基板、涂布于基板的光阻膜和电铸沉积于光阻膜表面及四周的电铸镍层,光阻膜设有光阻膜图案,电铸镍层上设有多个均匀微孔;光阻膜图案与微孔的形状一致。本实用新型的有益效果:使用LIGA技术制造的镍合金导光板模仁,制造出的导光板具高辉度及高均匀度、表面粗糙度佳、可制作精微三维结构、生产周期快速;利用光罩设计,可以设计不同图样,制作出不同微结构的微凹镜(如椭圆、长扇形等任意形状),进而得到不同的导光效果。 | ||
搜索关键词: | 镍合金 导光板 | ||
【主权项】:
镍合金导光板模仁,其特征在于:包括基板、涂布于基板的光阻膜和电铸沉积于光阻膜表面及四周的电铸镍层,光阻膜设有光阻膜图案,电铸镍层上设有多个均匀微孔;光阻膜图案与微孔的形状一致。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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