[实用新型]利用薄膜阻止冻土层上水向基坑涌水的结构有效

专利信息
申请号: 201220061372.1 申请日: 2012-02-24
公开(公告)号: CN203213130U 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 俞祁浩;胡俊;潘喜才;钱进;郭磊;游艳辉 申请(专利权)人: 中国科学院寒区旱区环境与工程研究所
主分类号: E02D19/12 分类号: E02D19/12
代理公司: 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 代理人: 马正良
地址: 730000 甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 实用新型涉及一种利用薄膜阻止冻土层上水向基坑涌水的结构,其特征是在距拟基坑周边开挖坑槽,坑槽深度至地下多年冻土层上限以下0-100cm的深度;坑槽的底部铺设一层1~30mm厚的膨润土、或粘土,然后,在开挖的坑槽内布设隔水膜,隔水膜布满开挖坑槽的底部,然后再沿坑壁抵达地表,形成L型,用填土回填并夯实;L型隔水膜的沿坑壁垂直部分为靠近拟开挖基坑边缘的间距为0.5-5m。本实用新型有效避免地下水对工程施工过程和冻土基础的影响,通过充分考虑冻土结构特点、地下水土质和水文结构特点,通过在拟开挖基坑周边布设一种特殊结构的隔水薄膜,有效阻水。同时,在工程施工完成后可以继续调控原开挖基坑内部水分,从而达到长期维护冻土基础稳定的目的。
搜索关键词: 利用 薄膜 阻止 土层 上水 基坑 结构
【主权项】:
一种利用薄膜阻止冻土层上水向基坑涌水的结构,其特征是在距拟基坑周边开挖坑槽(1),坑槽深度至地下多年冻土层上限(4)以下0‑100cm的深度;坑槽(1)的底部,铺设一层1~30mm厚的膨润土、或粘土(5),然后,在开挖的坑槽内布设隔水膜(2),隔水膜(2)布满开挖坑槽(1)的底部,然后再沿坑壁抵达地表,形成L型,用填土(3)回填并夯实;L型隔水膜的沿坑壁垂直部分为靠近拟开挖基坑的边缘的间距为0.5‑5m。
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