[实用新型]一种薄膜沉积设备有效
| 申请号： | 201220061414.1 | 申请日： | 2012-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN202626284U | 公开（公告）日： | 2012-12-26 |
| 发明（设计）人： | 刁宏伟;彭铮;李媛媛;王巍 | 申请（专利权）人： | 上海中智光纤通讯有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/54 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人： | 宋缨;孙健 |
| 地址： | 201108 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种薄膜沉积设备，包括基片预处理部分和薄膜沉积部分，基片预处理部分中基片装入腔室、表面处理腔室和烘干腔室间由传递装置对装有基片的基片挂架进行传送；薄膜沉积部分中预热腔与传递腔之间设有高真空插板阀；烘干腔室与预热腔相连通，烘干腔室与预热腔之间设有高真空插板阀；预热腔内设有基片挂架，烘干腔室内设有将基片挂到预热腔内的基片挂架上的机械手；传递腔内设有用于将预热腔内的基片送入薄膜沉积腔的三维旋转机械手；预热腔还分别与充氮装置和抽真空装置相连。本实用新型能够避免由于外部沾污原因造成的性能下降，提高了工艺的稳定性及重复性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 沉积 设备 | ||
【主权项】：
一种薄膜沉积设备，包括基片预处理部分和薄膜沉积部分，其特征在于，所述基片预处理部分包括依次连通并由气动门隔开的基片装入腔室(1)、表面处理腔室(2)和烘干腔室(3)；所述基片装入腔室(1)、表面处理腔室(2)和烘干腔室间(3)由传递装置对装有基片的基片挂架(10)进行传送；所述薄膜沉积部分包括依次连通的预热腔(6)、传递腔(7)和薄膜沉积腔(8)，所述预热腔(6)与传递腔(7)之间设有高真空插板阀；所述烘干腔室(3)与预热腔(6)相连通，所述烘干腔室(3)与预热腔(6)之间设有高真空插板阀；所述预热腔(6)内设有基片挂架(10)，所述烘干腔室(3)内设有将基片挂到预热腔(6)内的基片挂架(10)上的机械手；所述传递腔(7)内设有用于将预热腔(6)内的基片送入薄膜沉积腔的三维旋转机械手；所述预热腔(6)还分别与充氮装置和抽真空装置相连。
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