[实用新型]一种基于可调变掩膜版的曝光装置有效
| 申请号： | 201220064646.2 | 申请日： | 2012-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN202443247U | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 李文波;王刚 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜;王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种基于可调变掩膜版的曝光装置，其包括：曝光机主体，设置在所述曝光机主体上的可调变掩膜版，以及与所述可调变掩膜版相连的控制系统，所述曝光机主体用于采用所述可调变掩膜版进行曝光操作；所述控制系统用于控制所述可调变掩膜版图形的变化；所述可调变掩膜版用于对基板进行曝光，在基板上形成掩膜版图案。本实用新型设置了与可调变掩膜版相匹配的结构，以完成基板制作工艺中光刻胶的曝光，不同的曝光步骤中，掩膜版不需更换即可曝光，掩膜版在其正常使用寿命范围之内时也不需卸载，整个曝光装置结构简单，基板制作成本低，工艺操作简单，节省能耗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 可调 变掩膜版 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种基于可调变掩膜版的曝光装置，其特征在于，包括：曝光机主体，设置在所述曝光机主体上的可调变掩膜版，以及与所述可调变掩膜版相连的控制系统，所述曝光机主体用于采用所述可调变掩膜版进行曝光操作；所述控制系统用于控制所述可调变掩膜版图形的变化；所述可调变掩膜版用于对基板进行曝光，在基板上形成掩膜版图案。
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