[实用新型]一种新型气穴羟基高级氧化系统有效
| 申请号： | 201220076646.4 | 申请日： | 2012-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN202449907U | 公开（公告）日： | 2012-09-26 |
| 发明（设计）人： | 符福煜 | 申请（专利权）人： | 上海奥迪菲环境工程有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/72 | 分类号： | C02F1/72;C02F11/12;C02F11/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201700 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种新型气穴羟基高级氧化系统，其特征在于：它包括加压泵、进口连接管道、射流压缩腔、高速喷嘴、真空腔、气穴发生区、高速汽化水流对撞爆破腔和出水连接管道；所述加压泵连接进口连接管道，所述进口连接管道连接射流压缩腔，所述射流压缩腔设有高速喷嘴，所述高速喷嘴安装于真空腔内，所述真空腔与气穴发生区连接，气穴发生区与汽化水流对撞爆破腔相连接。本实用新型与现有技术相比的优点是：设备结构简单，造价低廉，无需任何化学辅助原材料，运行成本低，操作简单，不产生二次污染，羟基自由基(·OH)浓度高，氧化性能好而稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 气穴 羟基 高级 氧化 系统 | ||
【主权项】：
一种新型气穴羟基高级氧化系统，其特征在于：它包括加压泵、进口连接管道、射流压缩腔、高速喷嘴、真空腔、气穴发生区、高速汽化水流对撞爆破腔和出水连接管道；所述加压泵连接进口连接管道，所述进口连接管道连接射流压缩腔，所述射流压缩腔设有高速喷嘴，所述高速喷嘴安装于真空腔内，所述真空腔与气穴发生区连接，气穴发生区与汽化水流对撞爆破腔相连接。
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