[实用新型]一种耐高温防紫外光辐射偏光膜结构有效

专利信息
申请号: 201220078224.0 申请日: 2012-03-05
公开(公告)号: CN202548355U 公开(公告)日: 2012-11-21
发明(设计)人: 吴进家 申请(专利权)人: 来奇偏光科技(中国)股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;B32B23/08
代理公司: 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 代理人: 渠述华
地址: 361022 福建省*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种耐高温防紫外光辐射偏光膜结构,包括偏光层、防紫外光层及保护层,偏光层由PVA膜延伸而成;其中延伸后的PVA膜两侧均复合有TAC膜形成保护层;而防紫外光层是复合于PVA膜一侧的TAC膜上,在防紫外光层之外再复合有保护层。由于本实用新型是将延伸后的PVA膜的两侧均复合TAC膜之后的一侧再复合防紫外光层,这样便可阻断防紫外光层中的防UV物质和PVA的接触,从而改善产品经高温处理后的结合度,防止高温脱层现象发生,保证产品性能。
搜索关键词: 一种 耐高温 紫外 光辐射 偏光 膜结构
【主权项】:
一种耐高温防紫外光辐射偏光膜结构,包括偏光层、防紫外光层及保护层,其中偏光层由PVA膜延伸而成;其特征在于:延伸后的PVA膜两侧均复合有TAC膜形成保护层;而防紫外光层是复合于PVA膜一侧的TAC膜上,在防紫外光层之外再复合有保护层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于来奇偏光科技(中国)股份有限公司,未经来奇偏光科技(中国)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201220078224.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top