[实用新型]1680纳米带通红外滤光片有效

专利信息
申请号: 201220090874.7 申请日: 2012-03-12
公开(公告)号: CN202472016U 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 吕晶 申请(专利权)人: 杭州麦乐克电子科技有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;B32B9/04;B32B15/00
代理公司: 杭州金源通汇专利事务所(普通合伙) 33236 代理人: 唐迅
地址: 310000 浙江省杭州市西*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种1680纳米带通红外滤光片,包括以Bk7玻璃为原材料的基板、以Ti3O5和SiO2为镀膜材料的第一镀膜层以及以Si和SiO为镀膜材料的第二镀膜层,所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间,其特征是所述第一镀膜层包括从内向外依次排列的厚度不同的Ti3O5层和SiO2层,所述Ti3O5层和SiO2层交互排列;所述第二镀膜层包括从内向外依次排列的厚度不同的Si层和SiO层,所述Si层和SiO层交互排列。本实用新型得到的1680纳米带通红外滤光片,能实现中心波长定位在1680±1%纳米,峰值透过率达90%以上,截止区透过率小于0.1%,极大地提高了信噪比,提高应用领域产品的探测精度和效能。
搜索关键词: 1680 纳米 通红 滤光
【主权项】:
一种1680纳米带通红外滤光片,包括以Bk7玻璃为原材料的基板(1)、以Ti3O5和SiO2为镀膜材料的第一镀膜层(2)以及以Si和SiO为镀膜材料的第二镀膜层(3),所述基板(1)位于第一镀膜层(2)和第二镀膜层之间(3),其特征是第一镀膜层(2)包含从内向外依次排列的厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为569nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的厚度Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为569nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为569nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为189nm的Ti3O5层、厚度为285nm的SiO2层、厚度为249nm的Ti3O5层以及厚度为373nm的SiO2层;第二镀膜层(3)包含从内向外依次排列的厚度为80nm的Si层、厚度为90nm的SiO层、厚度为61nm的Si层、厚度为150nm的SiO层、厚度为45nm的Si层、厚度为100nm的SiO层、厚度为77nm的Si层、厚度为181nm的SiO层、厚度为103nm的Si层、厚度为155nm的SiO层、厚度为51nm的Si层、厚度为146nm的SiO层、厚度为108nm的Si层、厚度为193nm的SiO层、厚度为90nm的Si层、厚度为105nm的SiO层、厚度为69nm的Si层、厚度为154nm的SiO层、厚度为144nm的Si层、厚度为191nm的SiO层、厚度为227nm 的Si层、厚度为294nm的SiO层、厚度为147nm的Si层、厚度为321nm的SiO层、厚度为201nm的Si层、厚度为234nm的SiO层、厚度为183nm的Si层、厚度为349nm的SiO层、厚度为196nm的Si层、厚度为411nm的SiO层、厚度为194nm的Si层、厚度为405nm的SiO层、厚度为190nm的Si层以及厚度为211nm的SiO层。
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